真空離子電鍍

　真空電鍍是用于在固體表面上逐原子或逐分子沉積材料層的一系列工藝。這些過程在遠低于大氣壓(即真空)的壓力下操作。沉積的層的厚度可以從一個原子的厚度到毫米不等，形成獨立的結構。可以使用多層不同的材料，例如形成光學涂層。

　真空離子鍍適用于ABS材料和PC材料等產品，主要包括真空蒸發濺射濺射和離子鍍。 它們均用于在真空條件下通過蒸餾或濺射在塑料部件的表面上沉積各種金屬和非金屬薄膜。 這樣，可以獲得非常薄的表面涂層，并且同時具有速度很高和良好的粘附性的優點。但是價格也比較貴，并且可以操作的金屬種類更少。 它們通常用作貴重產品的功能涂料，例如內部屏蔽。

　　真空環境可以用于一個或多個目的：

　　降低粒子密度，使碰撞的平均自由程長

　　降低不良原子和分子(污染物)的顆粒密度

　　提供低壓等離子體環境

　　提供控制氣體和蒸氣成分的方法

　　提供用于控制進入處理室的質量流量的裝置。

應用領域：

　　導電：金屬膜，透明導電氧化物(TCO)，超導膜和涂層

　　半導體器件：半導體膜，電絕緣膜

　　太陽能電池。

　　光學膜：抗反射涂層，濾光片

　　反光涂料：鏡子，熱鏡

　　摩擦涂層：硬質涂層，抗腐蝕涂層，固體膜潤滑劑

　　節能與發電：低輻射率玻璃涂料，太陽能吸收涂料，鏡子，太陽能薄膜光伏電池，智能薄膜

　　磁性膜：磁性記錄

　　擴散壁壘：氣體滲透壁壘，蒸氣滲透壁壘，固態擴散壁壘

　　防腐蝕保護：

　　汽車應用：燈反射器和裝飾應用

　　小于一微米的厚度通常稱為薄膜，而大于一微米的厚度稱為涂層。